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光掩模版是芯片制造的“微观底片”，其制造流程复杂，精度要求达纳米级。全球市场规模持续增长，亚太占比超60%。中国企业已在部分环节突破，但仍面临高端设备依赖、材料瓶颈和人才短缺挑战。未来技术融合与国产化生态建设将助力产业发展。
6月30日，摩尔线程和沐曦同日递交科创板IPO申请，预计未来A股将涌现近10家“中国英伟达”。这轮上市潮源于政策松动，且美国出口管制为国产GPU提供了市场窗口期，但竞争也日趋激烈。目前国产GPU营收与亏损齐飞，未来需构建生态并解决产能问题。